廃棄物焼却 CEMS 流体ガスHClCO排出量連続モニタリングシステム
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塩化水素連続排出監視システム
,CEMS 連続排出監視システム
,CO 連続排出監視システム
廃棄物焼却CEMS排ガスHCl Co連続排出ガス監視システム
1. WT-400分析システムの基本設計原理
WT-400アンモニア分析システムは、レーザーNH₃分析計をコア分析ユニットとする高温抽出監視システムです。サンプルガスに接触するすべての部品は、180℃以上に加熱・断熱されており、正確で安定したNH₃測定を保証します。
2. 動作条件と要件
2.1 一般的な条件
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最大ダスト含有量：< 2000 g/Nm³
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サンプリングポイントでの排ガス温度：≤ 600℃
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サンプリングポイント圧力：-15～15 MPa
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タールおよびベンゼン含有量：< 10 g/Nm³
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飽和水蒸気存在
2.2 環境条件
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温度制御ボックスは屋外に設置され、計器は屋内に設置されます。周囲温度：5～45℃
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相対湿度（RH）：20～85%
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大気圧：10～106 kPa（現地の状況による）
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2.3 ユーティリティとガス供給要件
電源
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: 220V ±10%、50Hz ±1Hz、電力：5 kVA（強い電気的干渉がないこと）システムガス供給
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:3
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– サンプリングシステムのパージと閉塞防止に必要です。清浄で乾燥し、オイルフリーで、4～7 kg/cm²の圧力で効果的なパージを確保します。標準ガス
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– ガス分析システムの予備処理、校正、検証に使用します。測定精度を保証するために、標準ガスの品質がシステムの要件を満たしていることを確認してください。No.
Standard Gas Compositions 1tandard Gas Concentration 1tandard Gas Pressure 1N2 ≥ 99.9999% 0.5 -10 MPa 2 アンモニアエスケープオンライン監視システム 測定範囲の80% 0.5 -10 MPa 3. WTKF200の特徴 アンモニアエスケープオンライン監視システム -
: 1. 流線型の統合サンプリングプローブ、大きなダスト保持容量とダストろ過容量≤ 100 g/NM3
、目詰まりなし。2. ダストろ過精度：＜0.1 μm3. 分析精度：±1%FS
4. 応答時間：T90 ≤ 30 s
5. 平均故障間隔：MTBF＞3年
6. メンテナンス間隔：＞1年
7. 高温抽出サンプリング方法を採用し、サンプリングの歪みや正確な分析を保証します。
8. 高温および一定温度サンプリング設計により、NH3濃度の精度を確保します。
9. システムには、ダスト除去と目詰まり防止のための自動パージ装置があります。
10. 出力信号：4-20 mA; 制御アラーム信号NO/NC、1A/220V。
High Performance Sensor KF200 Series TDLAS Laser Gas Analyzer for CO O2 NH3 CO2 CH4 H2O HC HF
KF200 インシチューレーザーガス分析機 TDLAS 産業排出量のCO NH3 HCl O2のリアルタイムモニタリング
KF200 レーザーガス分析機 工業排出量のCO,NH3,HCl,O2のモニタリングのためのIn-situ TDLAS分析機
| イメージ | 部分# | 記述 | |
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High Performance Sensor KF200 Series TDLAS Laser Gas Analyzer for CO O2 NH3 CO2 CH4 H2O HC HF |
TDLAS industrial on-line analyzing and online environmental monitoring
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KF200 インシチューレーザーガス分析機 TDLAS 産業排出量のCO NH3 HCl O2のリアルタイムモニタリング |
The KF200 Series Laser Gas Analyzer is specifically designed for industrial online analysis and continuous environmental
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KF200 レーザーガス分析機 工業排出量のCO,NH3,HCl,O2のモニタリングのためのIn-situ TDLAS分析機 |
The KF200 Series Laser Gas Analyzer is developed aiming at industrial on-line analyzing, and online environmental monito
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